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Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT柱

更新時間： 2017-07-05

產品型號：

產品報價：

所在地：北京市朝陽區望京西園222號星源國際D座1503室

產品特點： ? CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷(注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離)
? 用于氧化化合物和溶劑的分析
? Z高溫度： 300 °C

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產品概述

Rt^®-Q-BOND熔融石英PLOT柱

100% 二乙烯基苯

·非極性 PLOT柱報告100%二乙烯基苯。

·非常適合分析C1 到C3的同分異構體和直到C12的烷類

· CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷（注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離）

·用于氧化化合物和溶劑的分析

·zui高溫度： 300 °C

類似固定相:Supel-Q-PLOT, AT-Q, CP-PoraPLOT Q, PoraBond Q

訂貨號 #	長度	內徑	厚度	單位
19764	15m	0.25mm	8μm	ea.
19765	30m	0.25mm	8μm	ea.
19743	15m	0.32mm	10μm	ea.
19744	30m	0.32mm	10μm	ea.
19741	15m	0.53mm	20μm	ea.
19742	30m	0.53mm	20μm	ea.

Showing 1 to 6 of 6 entries

描述：

Restek的化學家開發了一種新的多孔聚合物PLOT柱制造工藝。這種工藝包括將微粒吸附在柱壁上，所以幾乎沒有微粒的脫離現象。因為這種微粒與柱壁的吸附作用，使柱與柱在選擇和流失保持可重復性。

·非極性 PLOT柱報告100%二乙烯基苯。

·非常適合分析C1 到C3的同分異構體和直到C12的烷類

· CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷（注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離）

·用于氧化化合物和溶劑的分析

·zui高溫度： 300 °C

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北京明尼克分析儀器設備中心

聯系人：薛海玲電話：010-84723211 郵箱：xuehail@163.com 總部地址：北京市朝陽區望京西園222號星源國際D座1503室

研發中心：北京市平谷區中關村科技園區興谷A區平和街39號院（聯東U谷）22號樓C區

管理登陸網站地圖技術支持：化工儀器網

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